سلام وقت بخیر 🌿
لطفاً برای مقالهٔ من یک Graphical Abstract با ساختار زیر طراحی کنید.شماتیک کلی در عکس ها آپلود شده برای اینکه دید بهتری نسبت به طراحس داشته باشید.
عنوان مقاله :
Two-Photon Laser Oxidation Enables Uniform and Area-Selective ALD of HfO₂ on Graphene
سپس تصویر در چهار ستون عمودی طراحی شود:
⸻
🟦 ستون اول – ALD Cycle (قبل از لیزر)
تیتر:
Atomic Layer Deposition (ALD) Cycle
ALD به صورت دو نیمسیکل نمایش داده شود (نه چهار مرحله پشتِ سر هم):
First Half-Cycle
1. Precursor dosing (TDMAH)
2. N₂ purge
Second Half-Cycle
3. Co-reactant exposure (H₂O)
4. N₂ purge
لطفاً این 4 مرحله با دو نیمدایره نمایش داده شود:
– نیمدایره بالایی = First half-cycle
– نیمدایره پایینی = Second half-cycle
سطح زیر ALD در این ستون لازم نیست گرافن واقعی باشد؛ یک سطح ساده کفایت میکند.
⸻
🟦 ستون دوم – مشکل ALD روی گرافن خالص
تیتر:
Problem on Pristine Graphene (Issue Begins in Step 1)
در این ستون از Step 1 (Precursor dosing) ستون اول یک فلش رو به این ستون بیاید.
داخل این ستون یک دایره بزرگ قرار دهید و تصویر واقعی AFM/SEM که من ارسال میکنم داخل این دایره گذاشته شود. این تصویر باید نشان دهد که رسوب فقط روی عیوب گرافن شکل میگیرد.
کنار یا زیر این دایره، متن زیر نوشته شود:
No reactive sites → No chemisorption → No nucleation
Nucleation occurs only at defects:
– grain boundaries
– vacancies
– wrinkles
– edge sites
→ Island-type, non-uniform growth
این ستون باید دقیقاً نشان دهد که مشکل اصلی از Step 1 شروع میشود.
⸻
🟩 ستون سوم – لیزر و Functionalization
تیتر:
Two-Photon Laser Oxidation (2PLO) – Surface Activation
این ستون شامل موارد زیر باشد:
1. پرتو لیزر فوکوس شده
– یک لنز بکشید،
– پرتو سبز بسیار کمرنگ از زیر لنز روی گرافن فوکوس شود،
– کنار لنز نوشته شود:
“Femtosecond laser (515 nm)”
2. سطح گرافن سهبعدی و واضح باشد
Honeycomb lattice کاملاً مشخص باشد.
3. گروههای اکسیدی قرمز رنگ روی گرافن قرار گیرند
و به شکل واقعی نمایش داده شوند:
• COOH
• OH
• Epoxide (به صورت پل O بین دو اتم کربن)
4. یک دایره بزرگ زومشده قرار داده شود
و داخل آن یک بخش از گرافن با گروههای اکسیدی دقیقاً مطابق ساختار مقالهٔ من نشان داده شود.
کنار ستون بنویسید:
Laser-induced surface activation
Creates COOH, OH, epoxide groups
Enables chemisorption in Step 1
⸻
🟧 ستون چهارم – رسوب یکنواخت و Selective
تیتر:
Uniform and Selective ALD on Functionalized Graphene
در این ستون:
1. سطح گرافن functionalized شده (با گروههای قرمز) نمایش داده شود.
2. فقط روی این نوارها یک لایه قهوهای/طلایی HfO₂ قرار بگیرد (Atomic Layer).
3. نواحی غیر functionalized خالی بمانند.
در کنار لایه، متنهای زیر نوشته شود:
Atomic-layer HfO₂ film
Smooth, uniform, pinhole-free
Up to 100% selectivity
Growth only on laser-functionalized regions
⸻
نکات مهم طراحی
• لطفاً سطح گرافن در ستون 3 و 4 کاملاً واضح، سهبعدی و مشابه مقالهٔ من باشد.
• گروههای اکسیدی فقط روی گرافن قرار داده شوند.
• رنگ لیزر سبز بسیار کمرنگ باشد تا گرافن زیر آن دیده شود.
• ستون دوم حتماً شامل تصویر AFM/SEM باشد (من ارسال میکنم).
• سبک کار کاملاً علمی باشد، مانند Graphical Abstract مقالات Elsevier یا Wiley
این آگهی از وبسایت کارلنسر پیدا شده، با زدن دکمهی تماس با کارفرما، به وبسایت کارلنسر برین و از اونجا برای این شغل اقدام کنین.
هشدار
توجه داشته باشید که دریافت هزینه از کارجو برای استخدام با هر عنوانی غیرقانونی است. در صورت مواجهه با موارد مشکوک، با کلیک بر روی «گزارش مشکل آگهی» به ما در پیگیری تخلفات کمک کنید.